Reichhaltiger, cremiger Reinigungsschaum fürs Gesicht mit einem idealen pH-Wert von 5 entfernt wirksam Make-up und Unreinheiten, ohne die Haut zu reizen oder auszutrocknen. Hauptbestandteil des Reinigungsschaums SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam ist ein Extrakt aus Centella Asiatica, der auf Madagaskar gewonnen wird; er beruhigt, wirkt entzündungshemmend und fördert die Regeneration. Centella Asiatica in seiner reinsten Form wird durch Natriumhydrogencarbonat (Natron) ergänzt, das eine sanfte, zugleich gründliche Reinigung der Poren selbst von kleinsten Verunreinigungen gewährleistet. Die leicht saure Formulierung (pH 5) bewahrt ein ausgeglichenes, gesundes Hautbild, das widerstandsfähig gegenüber äußeren Einflüssen ist. Natriumhyaluronat und Kakao-Extrakt sorgen für tiefenwirksame Feuchtigkeit und Pflege. Der Reinigungsschaum ist hypoallergen und für alle Hauttypen geeignet, auch für überempfindliche Haut.